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氢氧化镁阻燃剂高速分散机

氢氧化镁阻燃剂高速分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备,先研磨后分散机,因为氢氧化镁分散到水中或者溶剂当中,会形成二级团聚体,软团聚。

  • 产品型号:GMSD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-09-29
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产品详情

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随着高分子材料工业的发展,塑料、橡胶、纤维等合成高分子材料越来越广泛的用于建筑、化工、军事及交通等领域。但大部分高分子材料均易于燃烧,在很多应用领域中,需要添加阻燃剂以降低其燃烧性及燃烧速度,从而达到预防火灾、减缓火势蔓延的密度。近年来,高分子阻燃技术受到性的关注阻燃剂以及成为*于增塑剂的第二大高分子材料用助剂。

作为重要的无极阻燃剂产品,氢氧化铝和氢氧化镁由于环境友好、阻燃性强而倍受人们青睐。与氢氧化铝相比,氢氧化镁具有热稳定性高、成炭效率高和降酸能力强等特点。可以广泛的应用于聚丙烯、聚苯乙烯、聚氯乙烯及不饱和树脂等高分子材料的阻燃和消烟。


然而,要获得超细的氢氧化镁助燃剂混悬液就必须使用高品质的分散设备,传统的分散设备,一方面无法将氢氧化镁浆料进一步细化,另一方分散效果不佳。上海SGN结合多家阻燃剂厂家,可知,采用SGNGMSD2000系列研磨分散机对氢氧化镁浆料进行进一步的研磨和分散,粒径更小,分散更均匀。

 

氢氧化镁阻燃剂分散机是将胶体磨和分散机一体化的设备,先研磨后分散机,因为氢氧化镁分散到水中或者溶剂当中,会形成二级团聚体,软团聚。需要先将团聚体打开再进行分散。SGN研磨分散机二级工作组,转速高达14000rpm,剪切力强,分散更*。

GMSD2000系列研磨分散设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

GMSD2000系列研磨分散机的结构:研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。



D一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。      

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

  
的特点:

① 线速度很高,剪切间隙非常小,当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨

② 定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

③ 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

④ 在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

⑤ 高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

GMSD2000 三级乳化机参数表

SGN高剪切乳化机选型表:

 

标准流量(H2O)

输出转速

标准线速度

马达功率

进出口尺寸

型号

l/h

rpm

m/s

kW

 

GMSD 2000/4

400

18000

51

4

DN25/DN15

GMSD 2000/5

1500

13500

51

7.5

DN40 /DN 32

GMSD 2000/10

4000

9257

51

22

DN50 / DN50

GMSD 2000/20

10000

3664

51

37

DN80 /DN 65

GMSD 2000/30

60000

1825

51

55

DN150 /DN 125

 

 

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