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纳米实验室胶体磨
纳米实验室胶体磨
型    号:GM2000
所属分类:超高速胶体磨
报    价:84000

纳米实验室胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,研磨效果非常好,zui高转速可以达到21000RPM。纳米实验室中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。

纳米实验室胶体磨产品概述:

一、产品关键词

纳米实验室胶体磨,试验室胶体磨,小型胶体磨,德国实验室胶体磨,高转速实验室胶体磨

二、实验室胶体磨的简介

实验室胶体磨比普通的胶体磨的速度达到4-5倍以上,研磨效果非常好,zui高转速可以达到21000RPM。
 

三、影响研磨粉碎结果的因素有以下几点

1、胶体磨磨头头的剪切速率(越大,效果越好)

2、胶体磨头的齿形结构(分为初齿,中齿,细齿,超细齿,约细齿效果越好)

3、物料在研磨腔体的停留时间,研磨粉碎时间(可以看作同等的电机,流量越小,效果越好)

4、循环次数(越多,效果越好,到设备的期限,就不能再好)

线速度的计算

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率(s-1)= v速率(m/s)
g定-转子间距(m)

由上可知,剪切速率取决于以下因素:

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子间距。
SGN定-转子的间距范围为0.2~0.4mm

速率V=3.14XD(转子直径)X转速RPM/60

四、实验室胶体磨的工艺

实验室胶体磨是由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生 向下的螺旋冲击力,透过定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。 

纳米实验室中试型胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,实验室中试型胶体磨用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。 物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时,须选用压力或输送泵进料或送料,输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

五、实验室胶体磨的设计

GM2000纳米实验室中试型胶体磨是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。高校研究院实验室胶体磨的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。实验室中试型胶体磨的定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

公司另外一项独特的创新,就是锥体磨GMO2000系列,它的设计使其功能在原有的GM2000的基础上又进了一步。由于这项创新,GMO2000能够湿磨和研磨,产生的颗粒粒径甚至比胶体磨GM2000还小。研磨间隙可以无级调节,从而可以得到***的研磨参数。 

高校研究院实验室胶体磨研磨头的表面涂上了一层极其坚硬的硬质材料,从而使其表面具有非常粗糙的纹理。这种硬质材料是由碳化物、陶瓷等高质量物质构成,并且具有不同的粒径。研磨头处形成了一个具有强烈剪切的区域,可以输送高粘度和低粘度物料,但它的分散效果和zui后的粒径大小都比胶体磨GM的效果更加理但它的分散效果和zui后的粒径大小都比胶体磨GM的效果更加理想。

六、两款胶体磨的主要区别

GM2000(LP系列)为实验室胶体磨的技术参数:功率1.5-2.2KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 升/小时(水),重量35KG,尺寸 (长宽高)(450250350)MM,LP使用轴封(PTFE 环),在正常的情况下,一般轴封可以使用3000-4000次。LP不能24小时连续使用,一般zui多可以使用连续半个小时,这要依据料液的温度和转速而定。LP也可以通过变换模块,可以实现多功能多用途。是中试生产的zui佳选择。

GM2000(PP系列)为中试型胶体磨的技术参数:功率2.2-4 KW,转速0-14000rpm,线速度 0-40m/s,电压380V,机器产量为 0– 700 /小时(水),重量45KG, 尺寸 (长宽高)((450250350)MM,PP使用双机械密封,可24小时不停机连续生产,并通冷媒对密封部分进行冷却。通过变换模块,可以实现多功能多用途。机械密封和机械设计符合3A健康标准,是中试和小批量生产的zui佳选择。

 

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