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微纳米氧化铝浆料分散机
微纳米氧化铝浆料分散机
型    号:GMD2000
所属分类:超高速分散机
报    价:85000
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微纳米氧化铝浆料分散机,GMD2000是由胶体磨和分散机组合而成的设备,转速高达18000rpm,强大的剪切力。胶体磨磨头配合分散机分散盘,先研磨后分散。这种特殊的设计的优势在于,粒子细化之后容易出现絮凝现象,所以此时分散十分重要,而砂磨机难以分散。

微纳米氧化铝浆料分散机产品概述:

微纳米氧化铝浆料分散机

氧化铝浆料分散机,氧化铝水性浆料高速分散机,氧化铝水性浆料纳米分散机,氧化铝水性浆料超细分散机,氧化铝浆料分散机

 

一、氧化铝的广泛应用

 

氧化铝具有硬度高、化学稳定性好、导热绝缘性能好等优点,已被广泛应用在陶瓷、无机膜、研磨抛光材料等领域。用作分析试剂、导热相变材料、CCL、环氧塑封料、环氧浇注料填充剂、导热铝基板、导热硅胶垫、导热灌封胶、导热硅脂、导热胶泥、导热双面胶有机溶剂的脱水、吸附剂、催化剂、冶炼铝的原料、耐火材料。

二、氧化铝的分散问题

 

近年来,已超细氧化***体研制功能陶瓷材料和新型功能复合材料受到人们的广泛关注。但超细氧化***体比表面积大,表面活性高,单个超细颗粒往往处于不稳定状态,颗粒之间因为相互吸引而团聚,易于失去超细粉体特有的性能,因此超细氧化***体的分散,是超细氧化***体走向实用化的关键。

在水溶液中,氧化铝浆料中的亚微米机微粒由于受静电引力等作用发生团聚,出现絮凝,分层等现象,破坏浆料的分散稳定性。为此浆料的分散稳定性成为人们研究的重点。影响稳定性的因素有很多,如:分散剂种类及用量、分散设备的选择、粉体的粒度及表面性质、PH值、温度等。

 

当物料工艺确定后,影响分散稳定性的因素就是浆料中粒子的半径,半径越小,沉降越慢、稳定性越高。这种情况下要提高分散稳定性就必须选用高品质的分散设备,来获得更好的物料粒径,提高分散的均匀性,推荐GMD2000系列研磨分散机,独特的结构,胶体磨+分散机一体化设备,14000rpm超高转速,效果好、效率高。

三、微纳米氧化铝浆料分散设备

 

结合多家化工企业案例,我司推荐GMD2000系列研磨式超高速分散机进行氧化铝分散,一般可获得超细的物料粒径,一般为1-2μm左右。当然还要看具体的物料工艺,以及原始状态。

 

GMD2000是由胶体磨和分散机组合而成的设备,转速高达18000rpm,强大的剪切力。胶体磨磨头配合分散机分散盘,先研磨后分散。这种特殊的设计的优势在于,粒子细化之后容易出现絮凝现象,所以此时分散十分重要,而砂磨机难以分散。

GMD2000系列研磨分散设备是SGN(苏州)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将高剪切均质乳化机进行改装,我们将三层变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种分散头供客户选择)。

四、实验室氧化铝浆料分散设备

上面介绍的是中试和工业级使用的分散机,若需要在实验室进行小试,可以使用SGN的SA25型手持式高剪切分散机,该款产品可以达到28000rpm的超高转速,团聚颗粒经过工作头下方吸料进入剪切区域,被瞬间撕裂,同时在颗粒表面形成静电电荷,达到混为排斥进而不再团聚的效果。

研磨分散机选型表

 

型号

流量

L/H

转速

rpm

线速度

m/s

功率

kw

入/出口连接

DN

GMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

 

微纳米氧化铝浆料分散机

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