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混悬液实验室小试胶体磨

混悬液实验室小试胶体磨,GMSD2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。

  • 产品型号:GMSD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-09-29
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产品详情

 

一、产品名称:混悬液实验室小试胶体磨混悬液实验室胶体磨,德国注射液进口胶体磨,上海注射液胶体磨,混悬液成套设备,实验室进口小试胶体磨,混悬液进口实验室用分散机

 

二、混悬液的生产概述:
混悬液胶体磨 如 长效盐suan头孢噻呋注射液,由下述方法制得:将盐suan头孢噻呋原料药加入复合溶媒中搅拌,充分混匀得混悬液;将助悬剂加入注射剂溶媒中并在80℃~90℃下溶解得溶解液;将溶解液冷却至室温后加入到混悬液中,搅拌均匀得混合液;再加入抑菌剂于混合液中,加入剩余的注射级溶媒定至全量,搅拌混匀;然后过高速剪切分散机,再过胶体磨,灭菌,制得长效盐suan头孢噻呋注射液。上海思峻医药级胶体磨制备工艺操作简单,得到的混悬注射液均匀、重分散性好、流动性好、沉降慢。溶解度和稳定性好,猪肌内注射该制剂后消除半衰期长,可延长药物在体内的有效作用时间,减少用药次数。

 

 

注射液胶体磨 如特别是一种硫suan头孢喹肟注射液及其制作工艺。该注射液的组成为含头孢喹肟不低于50g-300g的硫suan头孢喹肟微粉、抗氧剂0.4g-40g、脂类或酯类有机溶剂加至10000ml。制作工艺将抗氧剂溶于脂类或酯类有机溶剂,过滤至混合罐中,将硫suan头孢喹肟微粉加入,搅匀,过胶体磨磨细,制成均匀的混悬液,搅拌、分装、灭菌。上海思峻医药级胶体磨解决了现有技术存在的国内没有第四代动物头孢类抗菌素的问题,具有所制备的产品与第三代头孢菌素相比,抗菌谱更广,抗菌活性更强,对细菌产生的β-内酰胺酶更稳定,整体制备工艺简单易行。

 

 

 

 


三、混悬液的特性:

 

按Stokes定律要求,混悬剂中微粒浓度应在2%以下。但实际上常用的混悬剂浓度均在2%以上。此外,在沉降过程中微粒电荷的相互排斥作用,阻碍了微粒沉降,故实际沉降速度要比计算得出的速度小得多。由Stokes定律可见,混悬微粒沉降速度与微粒半径平方、微粒与分散介质密度差成正比,与分散介质的粘度成反比。混悬微粒沉降速度愈大,混悬剂的动力学稳定性就愈小。 

 

为了使微粒沉降速度减小,增加混悬剂的稳定性,可采用以下措施:①尽可能减小微粒半径,采用适当方法将药物粉碎得愈细愈好。这是zui有效的一种方法。②加入高分子助悬剂,既增加了分散介质的粘度,又减少微粒与分散介质之间的密度差,同时助悬剂被吸附于微粒的表面,形成保护膜,增加微粒的亲水性。③混悬剂中加入低分子助悬剂如糖浆、甘油等。

 

四、混悬液生产设备工艺流程: 

 

制备方法有分散法和凝聚法。采用凝聚法制备时,应选用稀溶液在较低温度下反应,以获得细腻、均匀沉淀。分散法制备混悬液时,亲水性药物,一般先研磨到一定细度,再加液质研磨和稀释;疏水性药物,应先将药物与润湿剂研均,再加液质研磨、稀释。凝聚法包括化学反应法和微粒结晶法,制备时应注意化学反应生成沉淀的条件,以便制得均匀、细腻的新生沉淀。处方中往往须加入助悬剂、润湿剂、絮凝剂与反絮凝剂等稳定剂。下面具体讨论混悬液分散制备的方法:主要采用上海思峻SGN混悬液胶体磨或者说混悬液研磨分散机,能够细化混悬液的颗粒,降低沉降速率,制得悬浮性号的分散均匀的溶液。

 

混悬液GMSD2000系列研磨分散设备是SGN(上海)公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品,该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装,我们将三级变更为一级,然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头,使物料可以先经过胶体磨细化物料,然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换(我们提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五种乳化头供客户选择)

 

 

 

 


五、混悬液胶体磨的作用:

 

 

胶体磨的细化作用一般来说要弱于均质机,但它对物料的适应能力较强(如高粘度、大颗粒),所以在很多场合下,它用于均质机的前道或者用于高粘度的场合。在固态物质较多时也常常使用胶体磨进行细化。
GMSD2000系列是专门为胶体溶液生产所设计,特别是那些需要很好乳化和分散效果的胶体生产。GMSD2000的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。 

 由电动机通过皮带传动带动转齿(或称为转子)与相配的定齿(或称为定子)作相对的高速旋转,被加工物料通过本身的重量或外部压力(可由泵产生)加压产生向下的螺旋冲击力,透过胶体磨定、转齿之间的间隙(间隙可调)时受到强大的剪切力、摩擦力、高频振动等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,达到物料超细粉碎及乳化的效果。

 

更稳定 采用优化设计理念,将先J的技术与创X的思维有效融合,并体现在具体的设备结构设计中,为设备稳定运行提供了保证.

 

新结构 通过梳齿状定子切割破碎,缝隙疏密决定细度大小,高线速度的吸料式叶轮提供很强的切割力,纤维湿法研磨破碎可达400目.

 

更可靠 采用整体式机械密封,很大程度上解决了高速运转下的物料泄漏以及冷却介质污染等问题,安装与更换方便快捷.

 

新技术 采用国W先J的受控切割技术,将纤维类物料粉碎细度控制在设定范围之内,满足生产中的粗、细及超细湿法粉碎的要求.

 

 

专为实验室研发,模拟生产流程,为量产提供可靠的数据论证。该中试型型机器和大型量产机型配置相同,且分散头的种类及相应线速度也相同,中试过程中的工艺参数在量产化之后不要重新调整,而将机器型号升级过程中的风险降到更低。

 

 

传统实验室分散机的弊端:传统的批次分散机用于研发,效果或许可以达到要求,但是摸索出来的设备参数*不可用,批次的分散机无法线性放大,所以后期工业化生产就需要重新摸索参数,这样会导致效率低、风险大。

 

 

六、SGN/思峻混悬液分散机型号参数表:

 

 设备等级:化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级 
  电机形式:普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、 
  电源选择:380V/50Hz、220V/60Hz、440V/50Hz 
  电机选配件:PTC 热保护、降噪型 
  均质机材质:SUS304、SUS316L、SUS316Ti 
  均质机选配:储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车 
  均质机表面处理:抛光、耐磨处理 
  进出口联结形式:法兰、螺口、夹箍 
  乳化机选配容器:本设备适合于各种不同大小的容器 
  分散均质机高剪切分散均质机,实验室均质机 
  应用于:奶油、化妆品、牙膏、果汁、洗涤剂、浆糊、盐溶液、催化剂、涂漆、聚合物乳化液、农药(除草剂、杀虫剂)。

 

GMSD2000 研磨分散机参数表

 

型号

 

GMSD2000/4

 

处理量:

 

0-400L/H(水)

 

功率

 

4kw

 

电机转速

 

3000rpm

 

传动转速

 

7300rpm(通过变频可10500rpm)

 

材质

 

与物料接触均为316L不锈钢

 

出口类型

 

卫生级卡箍联接

 

出口尺寸

 

DN15

 

进口类型

 

卫生级卡箍联接

 

进口尺寸

 

DN25

 

温度

 

120℃

 

压力

 

2.5bar

 

分散盘

 

约为55mm

 

整机重量

 

约为55kg

 

设备尺寸

 

450*350*750mm

 

 

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