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发酵液多糖超高速胶体磨
发酵液多糖超高速胶体磨
型    号:GMD2000
所属分类:超高速胶体磨
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发酵液多糖超高速胶体磨GMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。

发酵液多糖超高速胶体磨产品概述:

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  *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

  第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出ZUI终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

  GMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。是用转子-定子装置湿磨此类物质具有诸多好处:

  · 研磨得到的细颗粒被直接融合到悬浮液中,因而从开始就避免了灰尘的形成。

  · 与干磨系统不同,被研磨的物质保持在系统内,从而大幅减少了损失。因此,湿磨非常适合有机化学品,尤其是优质物质,或者有毒物质的研磨。

  · 相对干磨过程而言,湿磨的产品进料和计量较容易。

  发酵液多糖 发酵结束后的发酵液组成情况非常复杂,处理措施与化学合成法明显不同。通常情况下,发酵液中目标物浓度很低,而杂质含量却很高,成份远较化学反应母液情况复杂,大量菌体细胞、培养基、各种蛋白质胶状物、色素、金属离子和其它代谢物等混杂其中,使得发酵液的预处理对于目标物的ZUI终获取非常必要。

  1、发酵液预处理的目的是使发酵液中的蛋白质和某些杂质沉淀,以增加滤速,过滤的目的是使菌丝体与发酵液分离,以便从发酵液或菌丝体中提取目标物。预处理阶段主要去除两大类杂质:可溶性黏胶状物质(核酸、杂蛋白、不溶性多糖等)和无机盐(不仅影响成品炽灼残渣,还会影响离子交换法提取目标物的收率)。

  确定预处理方法前,首先要明确目标物存在于胞内(菌体)还是胞外(发酵液),以确定弃去和收集的对象;还要结合目标物的稳定性等特点,选择预处理的pH、温度和化学试剂等。对于菌丝体及杂蛋白的处理一般可采用等电点沉淀、变性沉淀、沉淀剂沉淀、加入絮凝剂、加入凝聚剂、吸附以及酶解法去除不溶性多糖等措施,对提取效果和成品质量影响较大的无机杂质主要是Ca2+、Mg2+、Fe3+等高价金属离子,可采用离子交换法、沉淀法等措施去除。加入的预处理试剂除要考虑到处理效果外,还要考虑低毒性、利于环保以及易于从终产品中除去等因素,申报时应说明所采取的措施及加入的试剂,必要时在成品质量研究中检测其残留量。

  发酵液多糖胶体磨 由于菌丝在发酵过程中,有的将多糖分泌到胞外,形成胞外多糖,有的只留在胞内,形成胞内多糖,对于胞外多糖,可以直接将发酵液经浓缩沉淀而得到. 而对于胞内多糖,在提取前应对菌丝体进行一定程度的预处理,利用细胞破壁技术破坏其细胞壁,使胞内多糖较易从细胞内释放出来.

  常用细胞破壁技术分为机械法和非机械法两类. 机械法按破碎方法分为靠固体剪切作用进行破碎的珠磨法、压榨法以及靠液体剪切作用进行破碎的高压匀浆法和超声破碎法. 非机械法按破碎方法分为靠溶胞作用进行破碎的酶溶法、化学法和物理法以及利用干燥处理技术进行破碎. 目前,高速珠磨匀浆法和高压匀浆法不仅在实验室被广泛采用,而且已在工业生产中应

  发酵液多糖胶体磨  由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

  *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

  第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

  GMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

  由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

  *级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

  第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出zui终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

  GMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

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