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光触媒催化剂高剪切分散机

光触媒催化剂高剪切分散机,我们的高剪切研磨分散设备就能够很好的解决这一问题,GMSD2000研磨分散机是三级高剪切研磨分散机可以先对物料进行胶体研磨细化,然后再经过分散盘对物料进行剪聚分散。我们也可以根据物料的粗细程度提供不同的分散盘。

  • 产品型号:GMSD2000-04
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2022-09-29
  • 访  问  量:993
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产品详情

光触媒催化剂高剪切分散机,光触媒高剪切研磨分散机,二氧化钛高剪切研磨分散机,二氧化钛研磨分散机,二氧化钛剪切分散机,二氧化钛纳米级分散机   

光触媒是一种以纳米级二氧化钛为代表的具有光催化功能的光半导体材料的总称,它涂布于基材表面,在紫外光及可见光的作用下,产生强烈催化降解功能:能有效地降解空气中有毒有害气体;能有效杀灭多种细菌,并能将细菌或真菌释放出的毒素分解及无害化处理;同时还具备除甲醛、除臭、抗污、净化空气等功能。

在所有的光触媒材料中,纳米二氧化钛不仅具有很高的光催化活性且具有耐酸碱腐蚀、耐化学腐蚀、无毒等优点,价格也适中,具有较高的性价比,因而市场上大多使用纳米二氧化钛做为主要原材料。

纳米级材料都有一个特性那就是容易出现团聚现象,纳米二氧化钛材料也不例外。团聚是指原生的纳米材料颗粒在设备、分离、处理及存放的过程中相互连接、由多个颗粒形成的较大的颗粒团簇的现象。由于团聚颗粒小,表面粒子比例大,表面积大,处于能量不稳定状态,因而细微的颗粒都趋向于聚集在一起,很容易团聚,形成团聚状的二次颗粒。

我们的高剪切研磨分散设备就能够很好的解决这一问题,GMSD2000研磨分散机是三级高剪切研磨分散机可以先对物料进行胶体研磨细化,然后再经过分散盘对物料进行剪聚分散。我们也可以根据物料的粗细程度提供不同的分散盘。

而且我们也有着丰富的经验,帮助北京的一家公司从小试到中式再到搭建产线。所以说我们的有把我做好客户的要求。

 

型号

标准流量L/H

输出转速Rpm

标准线速度m/s

马达功率KW

进口尺寸

出口尺寸

GMSD2000/4

300-1,000

18,000

51

4

DN25

DN15

GMSD2000/5

1,000-1,500

13,500

51

11

DN40

DN32

GMSD2000/10

3,000

9,300

51

22

DN50

DN50

GMSD2000/20

8,000

3,600

51

37

DN80

DN65

GMSD2000/30

20,000

3,600

51

75

DN150

DN125

GMSD2000/50

40,000

2,500

51

160

DN200

DN150

GMSD2000高剪切研磨分散机参数表

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

 2 处理量取决于物料的粘度,稠度和zui终产品的要求。

 3 参数内的各种型号的流量主要取决于所配置的乳化头的精密程度而定。

 4 本表的数据因技术改动,定制而不同,正确的参数以提供的实物为准。

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