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硅高分子微球高剪切研磨分散机

硅高分子微球高剪切研磨分散机转子速度可以达到44m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强,乳液的粒径分布更窄。

  • 产品型号:GMD2000
  • 厂商性质:生产厂家
  • 更新时间:2026-05-09
  • 访  问  量:9
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产品详情

硅高分子微球高剪切研磨分散机

硅高分子复合微球材料高速分散机,硅碳复合负极材料高速分散机 ,锂电池硅碳复合负极材料高速分散机,纳米硅高速分散机,管线式高速分散机

高速分散机处理量大,运转更平稳,拆装更方便,适合工业化在线连续生产,粒径分布范围窄,分散效果佳,*,物料通过分散剪切。其剪切速率可以超过100.00 rpm,转子的速度可以达到40m/s。在该速度范围内,由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级

利用可聚合性单体和交联剂作为硅的研磨介质,对纳米硅表面进行疏水化处理,然后加入炭黑及添加剂,通过高速剪切分散将纳米硅研磨液分散在聚yi烯醇的水溶液中形成O/W型乳液,通过微悬浮聚合,得到硅/高分子复合微球,把纳米硅固定在高分子微球内部,然后进行离心分离、干燥、高温热处理,得到锂离子电池用硅碳复合负极材料。本发明解决了纳米硅从液态的分散状态到干燥状态的团聚问题,提供一种纳米硅的分散和储存方法

硅高分子微球高剪切研磨分散机


(1) 制备硅分散液:

(2) 把硅分散液转入到装有搅拌器的受惰性气体保护的密闭容器中,向球磨好的硅分 散液中加入单体和交联剂总量1~15wt%偶联剂,以900~1500r/min速度搅拌,搅拌时间 30min,得到疏水化处理后的娃分散液;,形成有机单体/硅/炭黑分散液作为分散相;

(3) 往3倍于单体和交联剂总量的去离子水中加入单体和交联剂总量1~5. Owt%的 聚yi烯醇,使其*溶解成均匀透明的溶液,再加入单体和交联剂总量0. 005~0. 5wt%的 亚硝酸na并让其溶解,作为连续相;

(4) 把上述分散相边搅拌边加入到连续相中,使其均匀分散,然后再将该分散液加入到 高速剪切乳化分散机中进行乳化分散得乳化分散液;

(5) 将上述乳化分散液加入到装备边搅拌边升温至80°C,反应30min,再升温至90°C,反应6~10h,得到固含量在20~ 35%范围的娃/高分子复合微球乳液。


研磨分散机是由胶体磨分散机组合而成的高科技产品。

第一级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的转子之间距离。在增强的流体湍流下。凹槽在每级口可以改变方向。

硅高分子微球高剪切研磨分散机

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好的满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学征不一样。狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。

以下为型号表供参考:

研磨分散机

流量*

输出

线速度

功率

入口/出口连接

类型

l/h

rpm

m/s

kW


GMSD2000/4

400

14,000

44

4

DN25/DN15

GMSD2000/5

1000

10,050

44

11

DN40/DN32

GMSD2000/10

3000

7,500

44

22

DN80/DN65

GMSD2000/20

8000

4,900

44

45

DN80/DN65

GMSD2000/30

20000

2,850

44

90

DN150/DN125

GMSD2000/50

60000

1,100

44

110

DN200/DN150

*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性,同时流量可以被调节到zui大允许量的 10%。

硅高分子微球高剪切研磨分散机






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