GMD2000甘草粉超细湿法胶体磨

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SGN研磨机效率高、轻便、整机模块结构，操作方便，可长时间运转，轻松满足多种高要求的分散乳化实验。可在实验室模拟在线工况进行循环或在线连续处理，具有高效均质无分散死角等

甘草具有抗炎、抗bian态反应的作用，这主要来自于甘草酸铱--甘草酸及甘草次酸盐，还能抑制毛细血管通透性。肾上腺皮质激素样作用，甘草具有盐皮质甾醇样作用和糖皮质类甾醇样作用。其激素样作用的原理，有人认为是甘草次酸的化学结构与肾上腺皮质激素有相似之点，是一种直接作用，但也有人认为是间接作用，即甘草次酸抑制了肾上腺皮质甾醇类在体内的破坏，因而血中含量相应增加。同时，甘草黄铜还有抑制酪氨酸酶活性、清除氧目由基，其抗氧化能力与维生素E比较接近

客户原始样品120目，希望通过高剪切研磨机能够达到10微米以下，思峻给出了两种方案，一种采用GMSD2000/4湿法高剪切研磨机12000rpm转速下一遍两遍测试效果；第二种采用思峻推出的GR4000/4高速湿法分散机，线速度66m/s,21000rpm转速下一遍两遍测试效果。目测效果是很明显的，客户也是比较满意.

上海思峻的研磨分散机特别适合于需要研磨分散均质一步到位的物料。研磨分散机为立式分体结构，精密的零部件配合运转平稳，运行噪音在73DB以下。同时采用德国博格曼双端面机械密封，并通冷媒对密封部分进行冷却，把泄露概率降到低，保证机器连续24小时不停机运行。SGN研磨分散机可以高速研磨，分散，乳化，均质等功能，设备转速可达14000rpm，是目前国产设备转速的4-5倍。

根据一些行业特殊要求，思峻公司在GRS2000系列的基础上又开发出GR2000高速剪切乳化机机。其剪切速率可以超过200.00 rpm，转子的速度可以达到66m/s。在该速度范围内，由剪切力所造成的湍流结合专门研制的电机可以使粒径范围小到纳米级。剪切力更强，乳液的粒经分布更窄。由于能量密度高,无需其他辅助分散设备,可以达到普通的高压均质机的400BAR压力下的颗粒大小.

湿法研磨机的特点：

1、 线速度很高，剪切间隙非常小，当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨

2、 定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。

3、 定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离

4、 在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。

5、 高质量的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

从设备角度来分析，影响研磨分散机效果因素有以下几点：

1.研磨头的形式（批次式和连续式）（连续式比批次式要好）

2.研磨头的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齿形结构（分为初齿、中齿、细齿、超细齿、越细齿效果越好）

4.物料在分散墙体的停留时间、研磨分散时间（可以看作同等电机，流量越小效果越好）

5.循环次数（越多效果越好，到设备的期限就不能再好了。）

线速度的计算：

剪切速率的定义是两表面之间液体层的相对速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-转子 间距 (m)

由上可知，剪切速率取决于以下因素：

转子的线速率

在这种请况下两表面间的距离为转子-定子 间距。 
SGN 定-转子的间距范围为 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（转子直径）X 转速 RPM  /   60

 所以转速和分散头结构是影响分散的一个zui重要因素，高速分散均质分散机的高转速和剪切率对于获得超细微悬浮液是zui重要的

设备其它参数:

设备等级：化工级、卫生I级、卫生II级、无菌级
电机形式：普通马达、变频调速马达、防爆马达、变频防爆马达、
电源选择： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
电机选配件： PTC 热保护、降噪型
研磨分散机材质：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化锆陶瓷
研磨分散机选配：储液罐、排污阀、变频器、电控箱、移动小车
研磨分散机表面处理：抛光、耐磨处理
进出口联结形式：法兰、螺口、夹箍
研磨分散机选配容器：本设备适合于各种不同大小的容器

GMD2000系列研磨分散机设备选型表

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，可以被调节到zui大允许量的10%

价格电议  孙：，公司有样机可实验！，欢迎广大客户来我司参观指导！SGN销售工程师会根据客户具体需求做适当的设备选型，以及根据流量做型号相应放大！

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