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纳米二氧化硅高剪切分散机
纳米二氧化硅高剪切分散机
型    号:GMD2000
所属分类:高剪切分散机
报    价:88000
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纳米二氧化硅高剪切分散机,上海SGN(思峻)机械设备有限公司专门应对纳米材料易团聚需分散开发的高剪切研磨分散机GMD2000系列适合大规模地分散纳米氧化铝,纳米氧化锌,纳米氧化铈,纳米氧化铁,纳米氧化铋,纳料ATO合金等产品。

纳米二氧化硅高剪切分散机产品概述:

纳米二氧化硅高剪切分散机,二氧化硅分散机,异丙醇改性分散机,纳米二氧化硅研磨分散机

 

异丙醇改性纳米二氧化硅高速剪切研磨分散机, 15-30nm粒径20%含量的纳米二氧化硅异丙醇、乙醇、丁醇溶液为白色浆料,适用于溶剂型体系,具有增稠、触变、防流挂作用。

 

影响纳米材料分散要素:

 

1、分散介质

(1)根据粘度不同,分散介质分为高粘度、中粘度和低粘度三种。在低粘度介质中,如水和有机溶剂,纳米材料易于分散。中粘度介质如液态环氧树脂、液态硅橡胶等,高粘度介质如熔融态的塑料。

2、分散剂

(1)分散剂的选择,与分散介质的结构、极性、溶度参数等密切相关。

(2)分散剂的用量,与纳米材料比表面积和共价键修饰的功能基团有关。

(3)水性介质中,推荐使用TNWDIS。强极性有机溶剂中,如醇、DMF、NMP, 推荐使用TNADIS。中等极性有机溶剂如酯类、液态环氧树脂、液态硅橡胶,推荐使用TNEDIS 。 

3、分散设备

 上海SGN思峻)机械设备有限公司专门应对纳米材料易团聚需分散开发的高剪切研磨分散机GMD2000系列适合大规模地分散纳米氧化铝,纳米氧化锌,纳米氧化铈,纳米氧化铁,纳米氧化铋,纳料ATO合金等产品。纳米金属粉体、碳纳米管、高纯Al2O3、高纯纳米TiO2系列粉体、超活性纳米TiO2催化剂、纳米TiO2液体、纳米TiO2银抗菌剂、纳米高纯ZrO2、超细高纯ZrO2、纳米涂层材料、纳米载银抗菌粉、纳米SiO2、纳米ZnO、光触媒、纳米三防整理剂等系列粉体、液体、制剂在中、低粘度介质里的分散。

  

研磨式分散机是由胶体磨,分散机组合而成的高科技产品。

D1级由具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。

第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。在线式的定子和转子(乳化头)和批次式机器的工作头设计的不同主要是因为在对输送性的要求方面,特别要引起注意的是:在粗精度、中等精度、细精度和其他一些工作头类型之间的区别不光是指定转子齿的排列,还有一个很重要的区别是不同工作头的几何学特征不一样。狭槽数、狭槽宽度以及其他几何学特征都能改变定子和转子工作头的不同功能。根据以往的惯例,依据以前的经验指定工作头来满足一个具体的应用。在大多数情况下,机器的构造是和具体应用相匹配的,因而它对制造出ZUI终产品是很重要。当不确定一种工作头的构造是否满足预期的应用。

 

GMD2000系列的线速度很高,剪切间隙非常小,这样当物料经过的时候,形成的摩擦力就比较剧烈,结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形,具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。高质量的表面抛光和结构材料,可以满足不同行业的多种要求。

 

 

 

纳米二氧化硅高剪切分散机,二氧化硅分散机,异丙醇改性分散机,纳米二氧化硅研磨分散机

 

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